NLi-7500A2紫外线灯i线

e.高精度单面：针对各大专院校、企业及科研单位，对光刻机使用特性研发的一种高精度光刻机,中小规模集成电路、半导体元器件、光电子器件、声表面波器件的研制和生产。高精度对准工作台、双目分离视场CCD显微显示系统、曝光头、气动系统、真空管路系统、直联式无油真空泵、防震工作台和附件箱等组成。解决非圆形基片、碎片和底面不平的基片造成的版片分离不开所引起的版片无法对准的问题。2018年11月29日，国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”通过验收。该光刻机由中国科学院光电技术研究所研制，光刻分辨力达到22纳米，结合双重曝光技术后，未来还可用于制造10纳米级别的芯片。紫外线之光，半导体未来。NLi-7500A2紫外线灯i线

产品化无NOｘ产生的UV Lamp『智能准分子灯』作为臭氧发生动力（灯+电源）模块.臭氧存在与大气中，起到净化大气作用。大气中的氧气和太阳光中的紫外线反应或者雷的放电现象，自然生成。阳光充裕的海岸或森林，存在程度、制作出清爽的空气。臭氧的氧原子[O]3个结合后产物，化学式是[O3]。臭氧的氧原子比氧气原子多出1个的[O3]状态、余下的氧原子[O]给其它物质，引发返回稳定状态的氧分子现象。利用自然界发生的此性质，积极制作臭氧，进行脱臭，除菌，杀菌。OSM-1800Ni线步进式光刻机NSR-SF150,用于半导体器件制造。使用ORC高压汞灯，功率7.5KW，型号：NLi-7500AL2。

オーク製作所

紫外線光量計(Made in japan)

用途:OLED,LED,PCB,IC，LCD工厂，封装工艺中密封框胶水的固化。

特长：紫外线光固化，低能耗，无污染，高效率。

配合光量计，测量365nm峰值波长紫外线灯照度大小。

型番:UV-351

規格:測定波長:310～385nm

測定照度範囲:0.1～100ｍW/cm²

測定光量範囲:1～19999mJ/cm²

繰り返し精度:±1.5%以内

標準構成:

①光量计本体UV-351

②减光filter

③纽扣锂电池

④螺丝刀₋

⑤螺丝刀＋

⑥操作说明书

⑦除尘布

⑧收纳箱

特定の気体と金属蒸気の放電によって発光する電極間隔が1〜10ｍｍ程度のランプで、点灯中の圧力は100kPa以上です。リソグラフィ用UVランプとして高い評価と信頼をいただいています。ORCショートアークUVランプは高効率で紫外線を放射する点光源として、露光、乾燥、その他あらゆる産業、研究分野で利用されています。お客さまの御要望にお応えする幅広いラインナップを取りそろえており、共同開発などの課題解決のお役に立てます。型号：Nikon NSR-I12 ，应用于生产线，是6英寸，8英寸 i线光刻胶的曝光，曝光精度准，解析力可达350NM。

ORC制作所株式会社的品质管理实施方法１．品质管理①ISO-9001的认证・QC工程表、依作业标准书的标准化・认定工程、依作业审定的教育训练②外注部件的品质：・实施定期的品质会议・确保外注部件的安定筹措③产品品质：・采用弊社独自的检查方式・高亮度照明设备・Ｘ线检查装置・弊社独自的点灯试验方法・产品的抽样检查

为了防范于未然，实施全数点灯试验。

通过本公司的精密的灯制造工程，灯的初期照度的偏差非常小，很受客户的好评。 告别暗淡，迎接光明，超高压汞灯、金属卤素灯，工业紫外线灯新选择。光引发剂固化紫外线灯功率12KW

i线步进式光刻机NSR-SF130,用于半导体器件制造。使用ORC高压汞灯，功率5KW，型号：NLi-5001AL。NLi-7500A2紫外线灯i线

工件台为光刻机的一个关键，由掩模样片整体运动台（XY）、掩模样片相对运动台（XY）、转动台、样片调平机构、样片调焦机构、承片台、掩模夹、抽拉掩模台组成。其中，样片调平机构包括球座和半球。调平过程中首先对球座和半球通上压力空气，再通过调焦手轮，使球座、半球、样片向上运动，使样片与掩模相靠而找平样片，然后对二位三通电磁阀将球座和半球切换为真空进行锁紧而保持调平状态。样片调焦机构由调焦手轮、杠杆机构和上升直线导轨等组成，调平上升过程初步调焦，调平完成锁紧球气浮后，样片和掩模之间会产生一定的间隙，因此必须进行微调焦。另一方面，调平完成进行对准，必须分离一定的对准间隙，也需要进行微调焦。抽拉掩模台主要用于快速上下片，由燕尾导轨、定位挡块和锁紧手轮组成。承片台和掩模夹是根据不同的样片和掩模尺寸而进行设计的。NLi-7500A2紫外线灯i线